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                拋光粉的種類及拋光效★果分析

                2013-2-19

                一.拋光粉№的總類:
                拋光粉通常由氧化鋁、氧化矽、氧化鋯、氧化鈰等組份組成,不同的材料的硬度不同,在水中的化╱學性質也不同,因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9,氧化鈰和氧化矽為7,氧化鐵更低。氧化鈰與矽酸鹽玻璃的化學活性較高,硬度也相當,因此廣泛用於玻璃的拋光。
                為了增加氧化鈰的拋光速度,通常在氧化鈰拋光粉加入〓氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3-8的氟;純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。
                對ZF或F系列的玻璃來說,因為本身硬度〓較小,而且材料本身的氟含量較高,因此因選用▲不含氟的拋光粉為好。
                 
                二.對拋光粉的基本要求:
                (1)微粉粒度均勻一致,在允許的範圍之內;
                (2)有較↑高的純度,不含機械雜質;
                (3)有良好的分散性,以保障加工過程的均〒勻,可適量添加分散劑提高懸浮率;
                (4)粉末顆粒有一定的晶格形態,破碎時形成銳利的棱角,以提高拋光卐效率;
                (5)有合適的硬度和密度,和水有很好的浸潤性和懸浮性,因為拋光粉需要與水混合
                 
                    粒度越大的拋光粉,磨削︼力越大,越適合於較硬的材料,要註意的是,拋光粉的顆粒度都有一個分布問題,平均Ψ 粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢,而大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此,要得到高精度要▃求,必須控制拋光粉的大顆粒。
                 
                   拋光粉的真實硬度與材料有關,如氧化鋁的硬度就是莫氏硬度9左右,各種氧化鋁∞都差不多。但不同的氧化鋁給人感覺硬度不同。由於燒成溫度不同,團聚體的強☉度也不一樣,因此使用時會有硬度不一樣的感覺,產品表現出來的磨削率和耐磨性都會不一樣。這個需Ψ要有經驗的生產工廠根據拋不同物質去控制。
                 
                 拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時,漿料濃度因適當調低以得到合適的流動性。
                 
                三.拋光模的選擇
                拋光模應該用軟一點的。應該指出的是,很多聚氨酯拋◣光片中添加了氧化鈰拋光粉。這些拋光粉的大顆粒度同☆樣決定了最終的拋光精度。一般使用不加拋光粉的拋光模。
                 
                四.影響拋光粉性能的指標
                1、粉體的粒度大小:顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度,過→篩的篩網目數能掌握粉體相對的粒度的值,平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。
                2、粉體莫氏硬度:硬度相對大的粉體具有較快的切削效果,同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果;不同的應用領域會有很大出入,包括自身加工工藝。
                3、粉體懸浮性:好的拋光粉要有較好的懸浮性,粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響,片形及粒度細些的拋光粉的懸浮性相對㊣ 的要好一些,但不是絕對的。拋光粉懸浮性能的提高也可通過加懸浮液(劑)來改善。
                 
                4、粉體的晶型:粉體的晶ω型是團聚在一起的單晶顆粒,決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離□ (破碎),使其切削性、耐磨性逐漸下降,不規則的六邊形晶型顆粒具有良好的切削性、耐磨性和流動性。
                 
                五.拋光範圍細分:
                作為精細拋光材料,目前市場上用量較大的幾類拋光粉主要是氧化鋁拋光粉,氧化鈰拋光粉,氧化矽拋光粉等。
                 
                1.氧化鋁拋光粉:
                氧化鋁拋光粉(VK-L300F)一般用於大理石石材拋光,金屬鋁材拋光,金屬不銹鋼拋光,金相(亞克力板)拋光,PCB印制電路板拋光,油漆拋光,樹脂拋光,玉石拋光,顆粒大小根據要求一般分布在0.2-0.5um之間。
                 
                   2. 二氧化矽〖拋光粉:
                一般用於人工㊣晶體,寶石拋光,或者金屬制品精拋後修復其少量的瑕疵。其粒徑一般分布在0.3-1um
                 
                   3. 氧化鈰拋光】粉或者拋光液(VK-Ce02W):
                用於鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、晶圓,光學元件、光纖、藝術玻璃、電子玻璃、平板玻璃等的拋光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑⊙一般要求0.2um。